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单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3控制元器件均采用24V电源，PLC电源采用隔离变压器供电，降低外界电网杂波干扰了机床的安全性。
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| 品牌 | 宇环数控/YUHUANCNC | 产地 | 国产 |
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单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3主要用途:主要用于2.5D手机玻璃的弧面抛光。
单面研磨抛光机宇环数控YH2M8192C3机技术特点:
1、四工位上盘真空吸附抛光机。
2、利用真空吸附将工件固定在治具上。将羊毛毯固定在下盘表面，利用羊毛毯羊毛、抛光液与玻璃之间的摩擦力实现对玻璃弧面的抛光。
3、本机上下盘均可由数控程序控制，按工艺要求实现无极变速，以满足不同抛光工艺要求。
4、采用电气比例阀精确控制抛光压力，确保抛光精度。
5、上抛光盘由调速电机驱动，一个气缸控制其升降及加压。
6、本机采用人机界面HMI与可编程控制PLC相结合，操作方便快捷，提高了工作效率。
7、用触摸屏做为人机界面显示报警和机床状态的实时信息；介面友好，信息量大。
8、控制元器件均采用24V电源，PLC电源采用隔离变压器供电，降低外界电网杂波干扰了机床的安全性。
宇环数控YH2M8192C3主要技术参数：
| 项目 Item | 单位 Unit | 参数 Specs |
| 下工件盘尺寸（外径×厚度） Size of Lower working plate(OD*T) | mm | Φ914×35 |
| 上抛光盘尺寸Size of upper polishing plate(OD) | mm | 360 |
| 抛光头数量polishing head qty | pcs | 4 |
| 抛光压力（气压）反压Polishing pressure | MPa | 0—0.4 |
| 下抛光盘转速Rotational speed of lower polishing plate | rpm | 0～150 rpm(无极调速) |
| 上抛光盘转速Rotational speed of upper polishing plate | rpm | 0～200 rpm(无极调速) |
| 下抛光盘电机Motor of Lower plate | rpm | 功率7.5KW，额定转速：1440rpm |
| 上抛光盘电机Motor of Upper plate |
| 功率1.5KW，额定转速：1450rpm |
| 加压气缸（缸径×行程）Pressurized cylinder(bore*stroke) | mm | Φ140×450 |
| 外型尺寸（约：长×宽×高）Overall dimension (L*W*H) | mm | 1650×1450×2570 |
| 整机重量Total weight | kg | 2300 |
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